[1]
Koen, R., Van der Walt, I., Jansen, A. and Crouse, P. 2020. Beheerde etsing van die SiC-laag in TRISO-bedekte partikels in ’n nie-termiese CF4 plasma. Suid-Afrikaans Tydskrif vir Natuurwetenskap en Tegnologie / <i>South African Journal of Science and Technology</i&gt;. 39, 1 (Apr. 2020), 1-6.